研报速递 
半导体材料与设备是国产替代主战场，涵盖光刻机、刻蚀设备等核心环节。尽管近期设备方向表现突出，但材料仍有补涨空间。国产化率持续提升，光刻机国产替代率仅1%，未来有3～5倍空间，发展趋势明确。
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